今日消息，业内称台湾芯片制造商台积电已表示，其1.4纳米制程技术并不需要配备高端的极紫外光刻（EUV）设备，目前还并未找到需要特殊光学系统的原因。

台积电重申了在阿姆斯特丹举行的欧洲技术研讨会上对下一代高NA EUV光刻设备的支持立场。他们所研发的工艺技术包括A16（1.6纳米）、以及A14（1.4纳米）这些都无需使用如此高端的光刻系统。

这将确保该公司不会在此节点使用高数值孔径EUV 设备。

张晓强说：“人们似乎总是对台积电何时会使用高数值孔径(High-NA)感兴趣，我认为我们的答案很简单。”

只要我们的发现表明采用高数值孔径（High-NA）技术能够带来有益的效果，我们就会采纳这种方案的。对于A14而言，在不使用高数值孔径的情况下，性能提升也非常明显。因此，我们的技术团队正在持续探索如何通过延长现有EUV寿命的同时获取微缩优势来进一步发展我们的工艺技术。私家侦探，侦探公司，调查公司，查人找物，商务调查，出轨外遇调查，婚外情调查，私人调查，19209219596

台积电的A14工艺基于其第二代纳米片环栅晶体管 (Nanosheet Gate-All-Accepted Transistor)，以及全新的标准单元架构。

TSMC称，A14 的能耗提升率为15%，而在相同功率和复杂度下性能将提升15%；或者，在相同频率下，功耗将降低25%-30%。

“这是我们技术团队的一个重大创新。” 张晓强表示。“只要他们继续寻找方法，我们似乎不用再依赖高数值孔径的 EUV了。终究，我们会在这个时机用上它，只是需要找到一个合适的拦截点，并为最大化的效益以及最大的投资回报提供支持。”***私家侦探，侦探公司，调查公司，查人找物，商务调查，出轨外遇调查，婚外情调查，私人调查，19209219596***

据报道，作为当今世界上最先进的光刻设备，ASML的这款新款高数值孔径(EUV)光刻机不仅性能极为优异，在全球市场上的售价超过4亿美元，堪称天文数字，这种昂贵的成本导致许多公司对这款光刻机望而却步。

截止至目前为止ASML公司已成功交付5台设备，分别是由Intel和Samsung生产。这5台设备都超重，重达180吨，且尺寸与一个大巴车相似，被认为是世界上最昂贵的半导体生产线装备之一。

Intel在全球首台High NA EUV 光刻机的竞争中占据了领先地位。